پردازش لایه اتمی: فناوری حکاکی خشک نیمه هادی ۲۰۲۱
Atomic Layer Processing: Semiconductor Dry Etching Technology 2021

دانلود کتاب پردازش لایه اتمی: فناوری حکاکی خشک نیمه هادی ۲۰۲۱ (Atomic Layer Processing: Semiconductor Dry Etching Technology 2021) با لینک مستقیم و فرمت pdf (پی دی اف)

نویسنده

Thorsten Lill

ناشر: Wiley-VCH
voucher-1

۳۰ هزار تومان تخفیف با کد «OFF30» برای اولین خرید

سال انتشار

2021

زبان

English

نوع فایل

pdf

حجم

9 Mb

🏷️ قیمت اصلی: 200,000 تومان بود.قیمت فعلی: 129,000 تومان.

🏷️ قیمت اصلی: ۳۷۸٬۰۰۰ تومان بود. قیمت فعلی: ۲۹۸٬۰۰۰ تومان.

📥 دانلود نسخه‌ی اصلی کتاب به زبان انگلیسی(PDF)
🧠 به همراه ترجمه‌ی فارسی با هوش مصنوعی 🔗 مشاهده جزئیات

دانلود مستقیم PDF

ارسال فایل به ایمیل

پشتیبانی ۲۴ ساعته

توضیحات

معرفی کتاب پردازش لایه اتمی: فناوری حکاکی خشک نیمه هادی ۲۰۲۱

با این راهنمای عملی، درباره مباحث بنیادی و پیشرفته در حکاکی اطلاعات کسب کنید.

پردازش لایه اتمی: فناوری حکاکی خشک نیمه رسانا یک منبع عملی و جامع برای درک فناوری های حکاکی و کاربردهای آن ها ارائه می کند. این دانشمند، مدیر و نویسنده برجسته، اطلاعات عمیقی در مورد فناوری های مختلف حکاکی که در صنعت نیمه رسانا استفاده می شوند، از جمله حکاکی حرارتی، لایه اتمی ایزوتروپیک، رادیکالی، یونی، و حکاکی یونی واکنشی، در اختیار خوانندگان قرار می دهد.

این کتاب با بررسی مختصر تاریخچه فناوری حکاکی و نقش آن در انقلاب فناوری اطلاعات، همراه با مجموعه ای از اصطلاحات رایج در این صنعت، آغاز می شود. سپس به بحث در مورد انواع مختلف روش های حکاکی می پردازد و در نهایت با بررسی مباحث اساسی در طراحی راکتور حکاکی و موضوعات نوظهور در این زمینه، مانند نقش هوش مصنوعی در این فناوری، پایان می یابد.

پردازش لایه اتمی، طیف گسترده ای از موضوعات دیگر را نیز شامل می شود که همگی در راستای هدف نویسنده در ارائه درک اتمی از فناوری حکاکی خشک به خواننده، به منظور توسعه راه حل های خاص برای فناوری های نیمه رسانا فعلی و نوظهور، تلاش می کنند. خوانندگان از موارد زیر بهره مند می شوند:

  • بحث کامل در مورد مباحث اساسی در مورد چگونگی حذف اتم ها از سطوح مختلف
  • بررسی فناوری های نوظهور حکاکی، از جمله حکاکی با کمک لیزر و پرتو الکترون
  • بررسی کنترل فرآیند در فناوری حکاکی و نقش هوش مصنوعی
  • تجزیه و تحلیل طیف گسترده ای از روش های حکاکی، از جمله حکاکی حرارتی یا بخار، حکاکی لایه اتمی ایزوتروپیک، حکاکی رادیکالی، حکاکی لایه اتمی جهت دار و غیره

پردازش لایه اتمی، که برای دانشمندان مواد، فیزیکدانان نیمه رسانا و شیمیدانان سطح مناسب است، در کتابخانه های دانشمندان مهندسی در صنعت و دانشگاه، و همچنین هر کسی که در تولید فناوری نیمه رسانا نقش دارد، جای خواهد گرفت. مشارکت نزدیک نویسنده در تحقیق و توسعه شرکت ها و تحقیقات دانشگاهی، به این کتاب امکان می دهد تا رویکردی چند وجهی و بی نظیر به موضوع ارائه دهد.


فهرست کتاب:

۱. روی جلد

۲. فهرست مطالب

۳. صفحه عنوان

۴. حق تکثیر

۵. فهرست اختصارات

۱. مقدمه

۲. مبانی

۳. اچ حرارتی

۴. اچ ناهمسانگرد حرارتی اتمی لایه به لایه (ALE)

۵. اچ رادیکالی

۶. اچ همسانگرد اتمی لایه به لایه (ALE)

۷. اچ با یون فعال

۸. اچ با پرتو یونی

۹. تولید گونه‌های اچ

۱۰. فناوری‌های نوین اچ

۱۶. نمایه

۱۷. توافقنامه مجوز کاربری نهایی

 

توضیحات(انگلیسی)

Learn about fundamental and advanced topics in etching with this practical guide

Atomic Layer Processing: Semiconductor Dry Etching Technology delivers a hands-on, one-stop resource for understanding etching technologies and their applications. The distinguished scientist, executive, and author offers readers in-depth information on the various etching technologies used in the semiconductor industry, including thermal, isotropic atomic layer, radical, ion-assisted, and reactive ion etching.

The book begins with a brief history of etching technology and the role ithas played in the information technology revolution, along with a collection of commonly used terminology in the industry. It then moves on to discuss a variety of different etching techniques, before concluding with discussions of the fundamentals of etching reactor design and newly emerging topics in the fieldsuch asthe role played by artificial intelligence in the technology.

Atomic Layer Processing includes a wide variety of other topics as well, all of which contribute to the author’s goal of providing the reader with an atomic-level understanding of dry etching technology sufficient to develop specific solutions for existing and emerging semiconductor technologies. Readers will benefit from:

  • A complete discussion of the fundamentals of how to remove atoms from various surfaces
  • An examination of emerging etching technologies, including laser and electron beam assisted etching
  • A treatment of process control in etching technology and the role played by artificial intelligence
  • Analyses of a wide variety of etching methods, including thermal or vapor etching, isotropic atomic layer etching, radical etching, directional atomic layer etching, and more

Perfect for materials scientists, semiconductor physicists, and surface chemists, Atomic Layer Processing will also earn a place in the libraries of engineering scientists in industry and academia, as well as anyone involved with the manufacture of semiconductor technology. The author’s close involvement with corporate research & development and academic research allows the book to offer a uniquely multifaceted approach to the subject.


Table of Contents

1. Cover

2. Table of Contents

3. Title Page

4. Copyright

5. List of Abbreviations

1 Introduction

2 Fundamentals

3 Thermal Etching

4 Thermal Isotropic ALE

5 Radical Etching

6 Directional ALE

7 Reactive Ion Etching

8 Ion Beam Etching

9 Etching Species Generation

10 Emerging Etching Technologies

16. Index

17. End User License Agreement

دیگران دریافت کرده‌اند

✨ ضمانت تجربه خوب مطالعه

بازگشت کامل وجه

در صورت مشکل، مبلغ پرداختی بازگردانده می شود.

دانلود پرسرعت

دانلود فایل کتاب با سرعت بالا

ارسال فایل به ایمیل

دانلود مستقیم به همراه ارسال فایل به ایمیل.

پشتیبانی ۲۴ ساعته

با چت آنلاین و پیام‌رسان ها پاسخگو هستیم.

ضمانت کیفیت کتاب

کتاب ها را از منابع معتیر انتخاب می کنیم.