نشست لایه اتمی: اصول، ویژگی‌ها و کاربردهای فناوری نانو ۲۰۱۳
Atomic Layer Deposition: Principles, Characteristics, and Nanotechnology Applications 2013

در سال ۲۰۰۸ که ویرایش نخست به چاپ رسید، لایه نشانی اتمی (ALD) به عنوان یک فناوری قدرتمند و گاهی ارجح برای لایه نشانی، جایگاه خود را تثبیت کرد. ویرایش جدید این اثر پیشگام، نخستین متن جامعی است که به بررسی موضوع لایه نشانی اتمی از دیدگاه عملی می‌پردازد.

این کتاب کاربرد لایه نشانی اتمی در میکروالکترونیک (MEMS) و فناوری نانو، بسیاری از کاربردهای مهم، جدید و در حال ظهور، فرایندهای حرارتی برای رشد لایه‌های نازک نانومتری از نیمه رساناها، اکسیدها، فلزات و نیتریدها به روش لایه نشانی اتمی، و همچنین تشکیل مواد آلی و ترکیبی را پوشش می‌دهد.

Since the first edition was published in 2008, Atomic Layer Deposition (ALD) has emerged as a powerful, and sometimes preferred, deposition technology. The new edition of this groundbreaking monograph is the first text to review the subject of ALD comprehensively from a practical perspective. It covers ALD’s application to microelectronics (MEMS) and nanotechnology; many important new and emerging applications; thermal processes for ALD growth of nanometer thick films of semiconductors, oxides, metals and nitrides; and the formation of organic and hybrid materials.