نشاندن لایه‌ی اتمیِ مواد نانوساختار ۲۰۱۲
Atomic Layer Deposition of Nanostructured Materials 2012

رسوب‌نشانی لایه‌ی اتمی که پیش‌تر رویش لایه‌ی اتمی نامیده می‌شد، در دهه‌ی ۱۹۷۰ میلادی برای رفع نیازهای تولید نمایشگرهای تخت با کیفیت بالا و مساحت بزرگ، با ساختار بی‌نقص و قابلیت کنترل فرآیند، توسعه یافت. امروزه، ایجاد نانومواد و تولید نانوساختارها با کمال ساختاری، یک هدف مهم برای بسیاری از کاربردها در فناوری نانو است. از آنجایی که ALD یکی از تکنیک‌های مهمی است که کنترل خوبی بر ساختارهای سطحی ایجاد شده ارائه می‌دهد، بیشتر و بیشتر مورد توجه دانشمندان قرار می‌گیرد. این کتاب به گونه‌ای ساختاربندی شده است که هم نیاز خواننده‌ی متخصص را برآورده سازد (به دلیل ارائه‌ی سیستماتیک نتایج در خط مقدم این تکنیک و کاربردهای آن) و هم نیاز دانشجویان و تازه‌واردان به این حوزه را (از طریق بخش اول که به تفصیل به جنبه‌های اساسی این تکنیک می‌پردازد).

این کتاب برای همه‌ی دانشمندان علم مواد، شیمیدانان سطح، فیزیکدانان و دانشمندان در صنعت نیمه‌هادی، ضروری است.

Atomic layer deposition, formerly called atomic layer epitaxy, was developed in the 1970s to meet the needs of producing high-quality, large-area fl at displays with perfect structure and process controllability. Nowadays, creating nanomaterials and producing nanostructures with structural perfection is an important goal for many applications in nanotechnology. As ALD is one of the important techniques which offers good control over the surface structures created, it is more and more in the focus of scientists. The book is structured in such a way to fi t both the need of the expert reader (due to the systematic presentation of the results at the forefront of the technique and their applications) and the ones of students and newcomers to the fi eld (through the first part detailing the basic aspects of the technique).

This book is a must-have for all Materials Scientists, Surface Chemists, Physicists, and Scientists in the Semiconductor Industry.