راهنمای ساختارهای ناهمگون سیلیکونی: مواد، ساخت، قطعات، مدارها و کاربردهای SiGe و لایه‌نشانی لایه‌های کرنش‌دار Si ۲۰۱۸
Silicon Heterostructure Handbook: Materials, Fabrication, Devices, Circuits and Applications of SiGe and Si Strained-Layer Epitaxy 2018

ترکیبی خارق‌العاده از علم مواد، فرایندهای تولید و تفکر نوآورانه، منجر به توسعه‌ی دستگاه‌های هتروژانکشن SiGe شده است که طیف گسترده‌ای از عملکردها، سطوح بی‌سابقه‌ای از کارایی و هزینه‌های تولید پایین را ارائه می‌دهند. در حالی که کتاب‌های بسیاری در مورد جنبه‌های خاص هتروساختارهای Si وجود دارد، کتاب «راهنمای هتروساختارهای سیلیکونی: مواد، ساخت، دستگاه‌ها، مدارها و کاربردهای SiGe و لایه‌نشانی کششی Si» اولین کتابی است که تمام جنبه‌ها را در یک منبع واحد گرد هم آورده است.

این راهنما با ارائه بحثی گسترده، جامع و عمیق، وضعیت فعلی این حوزه را در زمینه‌هایی از مواد گرفته تا ساخت، دستگاه‌ها، CAD، مدارها و کاربردها، خلاصه می‌کند. ویراستار، “تصاویری فوری” از وضعیت پیشرفته‌ی صنعتی برای دستگاه‌ها و مدارها را نیز در بر می‌گیرد و دیدگاهی بدیع برای مقایسه‌ی وضعیت کنونی با مسیرهای آینده در این حوزه ارائه می‌دهد.

هر فصل از این کتاب توسط نویسندگان متخصص از موسسات صنعتی و تحقیقاتی برجسته در سراسر جهان نوشته شده است و کتاب نه تنها از نظر گستردگی دامنه، بلکه از نظر عمق پوشش، به‌روز بودن نتایج و اعتبار منابع، بی‌نظیر است. همچنین شامل پیشگفتاری از دکتر برنارد اس. میرسون، پیشگام در فناوری SiGe است.

«راهنمای هتروساختارهای سیلیکونی» با داشتن نزدیک به 1000 شکل به همراه پیوست‌های ارزشمند، به‌طور موثق به بررسی مواد، ساخت، فیزیک دستگاه، بهینه‌سازی ترانزیستور، قطعات اپتوالکترونیک، اندازه‌گیری، مدل‌سازی فشرده، طراحی مدار و شبیه‌سازی دستگاه می‌پردازد.

An extraordinary combination of material science, manufacturing processes, and innovative thinking spurred the development of SiGe heterojunction devices that offer a wide array of functions, unprecedented levels of performance, and low manufacturing costs. While there are many books on specific aspects of Si heterostructures, the Silicon Heterostructure Handbook: Materials, Fabrication, Devices, Circuits, and Applications of SiGe and Si Strained-Layer Epitaxy is the first book to bring all aspects together in a single source. Featuring broad, comprehensive, and in-depth discussion, this handbook distills the current state of the field in areas ranging from materials to fabrication, devices, CAD, circuits, and applications. The editor includes “snapshots” of the industrial state-of-the-art for devices and circuits, presenting a novel perspective for comparing the present status with future directions in the field. With each chapter contributed by expert authors from leading industrial and research institutions worldwide, the book is unequalled not only in breadth of scope, but also in depth of coverage, timeliness of results, and authority of references. It also includes a foreword by Dr. Bernard S. Meyerson, a pioneer in SiGe technology. Containing nearly 1000 figures along with valuable appendices, the Silicon Heterostructure Handbook authoritatively surveys materials, fabrication, device physics, transistor optimization, optoelectronics components, measurement, compact modeling, circuit design, and device simulation.