مبانی رسوب‌نشانی الکتروشیمیایی ۲۰۰۶
Fundamentals of Electrochemical Deposition 2006

“به عنوان یک منبع آموزشی عالی و مرجع کاربردی… موجز، دارای ساختاری منسجم و خوانا… به دانشجویان، مهندسان و محققان در تمامی زمینه‌های مرتبط قویاً توصیه می‌شود.”
– نشریه Corrosion درباره ویرایش اول کتاب مبانی رسوب‌نشانی الکتروشیمیایی

از سخت‌افزار کامپیوتر گرفته تا خودرو، تشخیص پزشکی و هوافضا، رسوب‌نشانی الکتروشیمیایی نقشی حیاتی در طیف وسیعی از صنایع کلیدی ایفا می‌کند. ویرایش دوم کتاب مبانی رسوب‌نشانی الکتروشیمیایی، مقدمه‌ای جامع بر یکی از هیجان‌انگیزترین و به سرعت در حال تحول‌ترین زمینه‌های دانش کاربردی امروز است.

این کتاب، به عنوان معتبرترین مقدمه بر این حوزه تا به امروز، پوشش دقیقی از طیف کاملی از فرآیندها و فناوری‌های رسوب‌نشانی الکتروشیمیایی ارائه می‌دهد، از جمله:

* فصل مشترک فلز-محلول
* انتقال بار در سراسر فصل مشترک
* تشکیل پتانسیل الکترود در حالت تعادل
* هسته‌زایی و رشد لایه‌های نازک
* سینتیک و مکانیسم‌های رسوب‌نشانی الکتریکی
* رسوب‌نشانی غیرالکتریکی
* شناسایی برجا (In situ) فرآیندهای رسوب‌نشانی
* ساختار و خواص رسوبات
* لایه‌های نازک چندلایه و کامپوزیتی
* نفوذ متقابل در لایه‌های نازک
* کاربردها در صنعت نیمه‌رسانا و زمینه پزشکی

این ویرایش جدید، ویرایش قبلی را به‌روزرسانی کرده تا به تحولات جدید در علم و کاربردهای آن بپردازد و فصل‌های جدیدی را در مورد کاربردهای نوآورانه رسوب‌نشانی الکتروشیمیایی در فناوری نیمه‌رسانا، مغناطیس و میکروالکترونیک و ابزار دقیق پزشکی ارائه می‌کند. پوشش‌های اضافه شده شامل موضوعاتی مانند انرژی اتصال، نانوخوشه‌ها، نیروی اتمی و میکروسکوپ تونلی روبشی است. مسائل نمونه در انتهای فصل‌ها و سایر ویژگی‌ها، درک مطلب را روشن و بهبود می‌بخشند.

این مرجع و متن، که توسط تیمی از نویسندگان با تجربه گسترده در صنعت و دانشگاه نوشته شده است، مقدمه‌ای جامع برای دانشجویان در این زمینه و همچنین ابزاری برای شیمی‌دانان، مهندسان و تکنسین‌های حرفه‌ای برای گسترش و تقویت مهارت‌های خود در استفاده از این فناوری فراهم می‌کند.

Excellent teaching and resource material . . . it is concise, coherently structured, and easy to read . . . highly recommended for students, engineers, and researchers in all related fields.”
-Corrosion on the First Edition of Fundamentals of Electrochemical Deposition

From computer hardware to automobiles, medical diagnostics to aerospace, electrochemical deposition plays a crucial role in an array of key industries. Fundamentals of Electrochemical Deposition, Second Edition is a comprehensive introduction to one of today’s most exciting and rapidly evolving fields of practical knowledge.

The most authoritative introduction to the field so far, the book presents detailed coverage of the full range of electrochemical deposition processes and technologies, including:
* Metal-solution interphase
* Charge transfer across an interphase
* Formation of an equilibrium electrode potential
* Nucleation and growth of thin films
* Kinetics and mechanisms of electrodeposition
* Electroless deposition
* In situ characterization of deposition processes
* Structure and properties of deposits
* Multilayered and composite thin films
* Interdiffusion in thin film
* Applications in the semiconductor industry and the field of medicine

This new edition updates the prior edition to address the new developments in the science and its applications, with new chapters on innovative applications of electrochemical deposition in semiconductor technology, magnetism and microelectronics, and medical instrumentation. Added coverage includes such topics as binding energy, nanoclusters, atomic force, and scanning tunneling microscopy.Example problems at the end of chapters and other features clarify and improve understanding of the material.

Written by an author team with extensive experience in both industry and academe, this reference and text provides a well-rounded introduction to the field for students, as well as a means for professional chemists, engineers, and technicians to expand and sharpen their skills in using the technology.