آماده‌سازی و خواص لایه‌های نازک: رساله‌ای در علم و فناوری مواد، جلد ۲۴ ۲۰۱۳
Preparation and Properties of Thin Films: Treatise on Materials Science and Technology, Vol. 24 2013

جلد ۲۴ از مجموعه “رساله‌ای در علم و فناوری مواد”: آماده‌سازی و خواص لایه‌های نازک، به بررسی پیشرفت‌های حاصل‌شده در زمینه‌ی آماده‌سازی لایه‌های نازک و مطالعات مربوط به خواص آن‌ها می‌پردازد.

این کتاب به بررسی ارتباط بین آماده‌سازی و خواص در لایه‌های نازک، تغییرات ریزساختار لایه‌های نازک، و همچنین اپیتاکسی باریکه‌ی مولکولی ابرشبکه‌ها در لایه‌های نازک می‌پردازد.

در ادامه، رشد اپیتاکسی ساختارهای سیلیکونی (به روش‌های حرارتی، لیزری و القا شده با باریکه‌ی الکترونی)، مشخصه‌یابی مرزهای دانه‌ای در لایه‌های نازک دو بلوری، و خواص مکانیکی لایه‌های نازک روی زیرلایه‌ها نیز تشریح شده‌اند.

اصلاح لایه‌های نازک با استفاده از پرتو یونی، استفاده از لایه‌های نازک آلیاژی برای فلزکاری در ابزارهای میکروالکترونیکی، و ساخت و خواص فیزیکی ساختارهای فوق‌العاده کوچک نیز در این مجلد مورد بررسی قرار گرفته‌اند.

دانشمندان و مهندسان مواد، این کتاب را منبعی ارزشمند خواهند یافت.

Treatise on Materials Science and Technology, Volume 24: Preparation and Properties of Thin Films covers the progress made in the preparation of thin films and the corresponding study of their properties. The book discusses the preparation and property correlations in thin film; the variation of microstructure of thin films; and the molecular beam epitaxy of superlattices in thin film. The text also describes the epitaxial growth of silicon structures (thermal-, laser-, and electron-beam-induced); the characterization of grain boundaries in bicrystalline thin films; and the mechanical properties of thin films on substrates. The ion beam modification of thin film; the use of thin alloy films for metallization in microelectronic devices; and the fabrication and physical properties of ultrasmall structures are also encompassed. Materials scientists and materials engineers will find the book invaluable.