III-نیترید: مواد نیمه‌رسانا ۲۰۰۶
III-nitride: Semiconductor Materials 2006

دانلود کتاب III-نیترید: مواد نیمه‌رسانا ۲۰۰۶ (III-nitride: Semiconductor Materials 2006) با لینک مستقیم و فرمت pdf (پی دی اف)

نویسنده

Zhe Chuan Feng

voucher-1

۳۰ هزار تومان تخفیف با کد «OFF30» برای اولین خرید

سال انتشار

2006

زبان

English

تعداد صفحه‌ها

428

نوع فایل

pdf

حجم

24.4MB

🏷️ قیمت اصلی: 200,000 تومان بود.قیمت فعلی: 129,000 تومان.

🏷️ قیمت اصلی: ۳۷۸٬۰۰۰ تومان بود. قیمت فعلی: ۲۹۸٬۰۰۰ تومان.

📥 دانلود نسخه‌ی اصلی کتاب به زبان انگلیسی(PDF)
🧠 به همراه ترجمه‌ی فارسی با هوش مصنوعی 🔗 مشاهده جزئیات

پیش‌خرید با تحویل فوری(⚡️) | فایل کتاب حداکثر تا ۳۰ دقیقه(🕒) پس از ثبت سفارش آماده دانلود خواهد بود.

دانلود مستقیم PDF

ارسال فایل به ایمیل

پشتیبانی ۲۴ ساعته

توضیحات

معرفی کتاب III-نیترید: مواد نیمه‌رسانا ۲۰۰۶

مواد نیمه‌رسانای نیتریدی گروه III (Al, In, Ga)N نیمه‌رساناهای باند گپ پهن بسیار عالی و مناسب برای کاربردهای الکترونیکی و اپتوالکترونیکی مدرن هستند. پیشرفت‌های چشمگیری اخیراً حاصل شده است و دانش و داده‌های منتشر شده کنونی باید اصلاح و به‌روز شوند. این کتاب به ارائه پیشرفت‌ها و دستاوردهای جدید در این زمینه می‌پردازد. فصل‌های مروری این کتاب که توسط متخصصان برجسته نوشته شده است، مهمترین موضوعات و دستاوردهای سال‌های اخیر را پوشش می‌دهد، پیشرفت‌های گروه‌های مختلف را مورد بحث قرار می‌دهد و مسیرهای آینده را پیشنهاد می‌کند. هر فصل همچنین مبانی نظریه یا آزمایش را شرح می‌دهد. صنعت مبتنی بر نیتریدهای گروه III در حال شکل‌گیری است و تحولات اقتصادی جدید ناشی از این مواد امیدوارکننده است. انتظار می‌رود LEDهای مبتنی بر نیتریدهای گروه III جایگزین لامپ‌های سنتی شوند تا انقلابی در روشنایی ایجاد کنند. این کتاب منبع ارزشمندی از اطلاعات برای مهندسان، دانشمندان و دانشجویانی است که در راستای چنین اهدافی تلاش می‌کنند. نمونه فصل‌ها: فصل 1: لایه نشانی فاز بخار هیدریدی مواد نیتریدی گروه III (540 کیلوبایت). فهرست مطالب: لایه نشانی فاز بخار هیدریدی مواد نیتریدی گروه III (V Dmitriev & A Usikov); فناوری MOVPE مسطح برای لایه نشانی مواد نیتریدی گروه III (M Dauelsberg et al.); فناوری MOCVD دوش حمام جفتی برای لایه نشانی GaN و مواد مرتبط (E J Thrush & A R Boyd); لایه نشانی باریکه مولکولی برای مواد III-N (H Tang & J Webb); رشد و خواص لایه‌ها و ناهم‌ساختارهای غیرقطبی GaN (Y J Sun & O Brandt); رشد ایندیوم-نیترید توسط CVD فشار بالا: مشخصه‌یابی بلادرنگ و خارج از محل (N Dietz); نگاهی نو به InN (L-W Tu et al.); رشد و خواص نوری/الکتریکی آلیاژهای Al x Ga 1-x N در محدوده ترکیبی کامل (F Yun); بررسی نوری ساختارهای چاه کوانتومی InGaN/GaN رشد یافته توسط MOCVD (T Wang); خوشه‌بندی نانوساختارها و ویژگی‌های نوری در ساختارهای چاه کوانتومی InGaN/GaN با دوپینگ سیلیکون (Y-C Cheng et al.); ریز- و نانوساختارهای نیتریدهای گروه III (H M Ng & A Chowdhury); تحولات جدید در تحقیقات نیمه‌رسانای نیترید رقیق (W Shan et al.). مخاطبان: دانشمندان؛ پرورش‌دهندگان و ارزیابان مواد؛ طراحی دستگاه، مهندسان پردازش؛ دانشجویان کارشناسی ارشد و فارغ‌التحصیل در رشته‌های مهندسی برق و الکترونیک و مهندسی مواد.


فهرست کتاب:

۱. فهرست مطالب

۲. پیشگفتار

۳. فصل ۱: لایه نشانی فاز بخار هیدریدی مواد نیتریدی گروه III

۴. فصل ۲: فناوری MOVPE مسطح برای لایه نشانی مواد III-نیتریدی

۵. فصل ۳: فناوری MOCVD دوش متصل از نزدیک برای لایه نشانی GaN و مواد مرتبط

۶. فصل ۴: لایه نشانی باریکه مولکولی برای مواد III-N

۷. فصل ۵: رشد و خواص لایه‌های نازک و ناهم‌ساختارهای GaN غیرقطبی

۸. فصل ۶: رشد ایندیوم-نیترید توسط CVD فشار بالا: مشخصه یابی آنی و برون‌تنی

۹. فصل ۷: نگاهی نو به InN

۱۰. فصل ۸: رشد و خواص الکتریکی/نوری AlxGa۱-xN در کل محدوده ترکیب

۱۱. فصل ۹: بررسی نوری ساختارهای چاه کوانتومی InGaN/GaN رشد یافته توسط MOCVD

۱۲. فصل ۱۰: خوشه‌بندی نانوساختارها و ویژگی‌های نوری در ساختارهای چاه کوانتومی InGaN/GaN با دوپینگ سیلیسیم

۱۳. فصل ۱۱: ریزساختارها و نانوساختارهای III-نیتریدها

۱۴. فصل ۱۲: تحولات جدید در تحقیقات نیمه هادی نیترید رقیق

توضیحات(انگلیسی)
III-Nitride semiconductor materials OCo (Al, In, Ga)N OCo are excellent wide band gap semiconductors very suitable for modern electronic and optoelectronic applications. Remarkable breakthroughs have been achieved recently, and current knowledge and data published have to be modified and upgraded. This book presents the new developments and achievements in the field. Written by renowned experts, the review chapters in this book cover the most important topics and achievements in recent years, discuss progress made by different groups, and suggest future directions. Each chapter also describes the basis of theory or experiment. The III-Nitride-based industry is building up and new economic developments from these materials are promising. It is expected that III-Nitride-based LEDs may replace traditional light bulbs to realize a revolution in lighting. This book is a valuable source of information for engineers, scientists and students working towards such goals. Sample Chapter(s). Chapter 1: Hydride Vapor Phase Epitaxy of Group III Nitride Materials (540 KB). Contents: Hydride Vapor Phase Epitaxy of Group III Nitride Materials (V Dmitriev & A Usikov); Planar MOVPE Technology for Epitaxy of III-Nitride Materials (M Dauelsberg et al.); Close-Coupled Showerhead MOCVD Technology for the Epitaxy of GaN and Related Materials (E J Thrush & A R Boyd); Molecular Beam Epitaxy for III-N Materials (H Tang & J Webb); Growth and Properties of Nonpolar GaN Films and Heterostructures (Y J Sun & O Brandt); Indium-Nitride Growth by High-Pressure CVD: Real-Time and Ex-Situ Characterization (N Dietz); A New Look on InN (L-W Tu et al.); Growth and Optical/Electrical Properties of Al x Ga 1-x N Alloys in the Full Composition Range (F Yun); Optical Investigation of InGaN/GaN Quantum Well Structures Grown by MOCVD (T Wang); Clustering Nanostructures and Optical Characteristics in InGaN/GaN Quantum-Well Structures with Silicon Doping (Y-C Cheng et al.); III-Nitrides Micro- and Nano-Structures (H M Ng & A Chowdhury); New Developments in Dilute Nitride Semiconductor Research (W Shan et al.). Readership: Scientists; material growers and evaluators; device design, processing engineers; postgraduate and graduate students in electrical & electronic engineering and materials engineering.


Table of Contents

1. CONTENTS

2. Preface

3. Chapter 1 Hydride vapor phase epitaxy of group III nitride materials

4. Chapter 2 Planar MOVPE technology for epitaxy of III-nitride materials

5. Chapter 3 Close-Coupled Showerhead MOCVD technology for the epitaxy of GaN and related materials

6. Chapter 4 Molecular beam epitaxy for III-N materials

7. Chapter 5 Growth and properties of nonpolar GaN films and heterostructures

8. Chapter 6 Indium-nitride growth by high-pressure CVD: real-time and ex-situ characterization

9. Chapter 7 A new look on InN

10. Chapter 8 Growth and electrical/optical properties of AlxGa1-xN in the full composition range

11. Chapter 9 Optical investigation of InGaN/GaN quantum well structures grown by MOCVD

12. Chapter 10 Clustering nanostructures and optical characteristics in InGaN/GaN quantum-well structures with silicon doping

13. Chapter 11 III-nitrides micro- and nano-structures

14. Chapter 12 New developments in dilute nitride semiconductor research

دیگران دریافت کرده‌اند

ترکیبات نیمه‌رسانای III-V ۲۰۱۴
Semiconducting III–V Compounds 2014

🏷️ قیمت اصلی: 200,000 تومان بود.قیمت فعلی: 129,000 تومان.

سرنگتی III ۲۰۰۹
Serengeti III 2009

🏷️ قیمت اصلی: 200,000 تومان بود.قیمت فعلی: 129,000 تومان.

✨ ضمانت تجربه خوب مطالعه

بازگشت کامل وجه

در صورت مشکل، مبلغ پرداختی بازگردانده می شود.

دانلود پرسرعت

دانلود فایل کتاب با سرعت بالا

ارسال فایل به ایمیل

دانلود مستقیم به همراه ارسال فایل به ایمیل.

پشتیبانی ۲۴ ساعته

با چت آنلاین و پیام‌رسان ها پاسخگو هستیم.

ضمانت کیفیت کتاب

کتاب ها را از منابع معتیر انتخاب می کنیم.