راهنمای جامع فناوری ساخت فوتوماسک ۲۰۱۸
Handbook of Photomask Manufacturing Technology 2018

همگام با تلاش صنعت نیمه‌رسانا برای افزایش تعداد عملکردهایی که در کوچک‌ترین فضای روی یک تراشه جای می‌گیرند، اهمیت همگامی فناوری‌های جدید با این نیازها بیشتر می‌شود. فناوری فوتوماسک یکی از حوزه‌های کلیدی برای دستیابی به این هدف است. اگرچه در متون، مرورهای مختصری بر فناوری فوتوماسک وجود دارد، «کتاب راهنمای فناوری ساخت فوتوماسک» نخستین اثر جامع و عمیق در مورد فناوری‌های موجود و نوظهور فوتوماسک به شمار می‌رود.

این کتاب با مشارکت ۴۰ نویسنده‌ی برجسته‌ی بین‌المللی از صنعت، دانشگاه، دولت، آزمایشگاه‌های ملی و کنسرسیوم‌ها تدوین شده است. نویسندگان به بحث در مورد ماسک‌های مرسوم و فناوری‌های پشتیبان آن‌ها، و نیز فناوری‌های نسل بعدی غیر نوری مانند فرابنفش شدید، پرتو افکنی الکترونی، پرتو افکنی یونی و لیتوگرافی اشعه‌ی ایکس می‌پردازند.

کتاب با مروری بر تاریخچه‌ی توسعه‌ی فوتوماسک آغاز می‌شود. سپس مراحل طراحی، تولید، آزمایش، بازرسی و تعمیر فوتوماسک‌ها را، مطابق با توالی مشاهده‌شده در تولید واقعی، شرح می‌دهد. همچنین، بخش‌هایی در مورد مواد مورد استفاده و نیز مدل‌سازی و شبیه‌سازی در این اثر گنجانده شده است.

بهبودهای مداوم در فرآیند ساخت فوتوماسک، عصر زیرطول‌موج را در نانولیتوگرافی رقم زده است. این کتاب راهنمای ارزشمند، این اصلاحات را تلفیق کرده و ابزارها و امکانات لازم برای دستیابی به نسل بعدی فناوری‌های ساخت میکروساختار را فراهم می‌آورد.

As the semiconductor industry attempts to increase the number of functions that will fit into the smallest space on a chip, it becomes increasingly important for new technologies to keep apace with these demands. Photomask technology is one of the key areas to achieving this goal. Although brief overviews of photomask technology exist in the literature, the Handbook of Photomask Manufacturing Technology is the first in-depth, comprehensive treatment of existing and emerging photomask technologies available. The Handbook of Photomask Manufacturing Technology features contributions from 40 internationally prominent authors from industry, academia, government, national labs, and consortia. These authors discuss conventional masks and their supporting technologies, as well as next-generation, non-optical technologies such as extreme ultraviolet, electron projection, ion projection, and x-ray lithography. The book begins with an overview of the history of photomask development. It then demonstrates the steps involved in designing, producing, testing, inspecting, and repairing photomasks, following the sequences observed in actual production. The text also includes sections on materials used as well as modeling and simulation. Continued refinements in the photomask-making process have ushered in the sub-wavelength era in nanolithography. This invaluable handbook synthesizes these refinements and provides the tools and possibilities necessary to reach the next generation of microfabrication technologies.