فیلم‌های الماس: رسوب‌دهی بخار شیمیایی برای رشد جهت‌دار و ناهم‌لایه نشانی ۲۰۰۵
Diamond Films: Chemical Vapor Deposition for Oriented and Heteroepitaxial Growth 2005

• به بررسی پیشرفته‌ترین تکنیک‌های رشد الماس می‌پردازد.
• به محققان الماس در تصمیم‌گیری در مورد مناسب‌ترین شرایط فرآیند کمک می‌کند.
• خوانندگان را برای ابداع روش‌های جدید CVD (رسوب‌دهی بخار شیمیایی) ترغیب می‌کند.

از اوایل دهه‌ی 1980، و کشف روش‌های رشد بخار لایه‌های الماس، رشد هترواپیتکسیال به یکی از مهم‌ترین و پربحث‌ترین موضوعات در میان جامعه‌ی تحقیقاتی الماس تبدیل شده است. کوباشی این بحث‌ها را با تمرکز قوی بر چگونگی بهترین استفاده از لایه‌های الماس به عنوان یک ماده صنعتی مستند کرده است، و از این فرض شروع می‌کند که لایه‌های کریستالی الماس را می‌توان با رسوب‌دهی بخار شیمیایی تولید کرد. کوباشی اطلاعاتی در مورد فناوری‌های فرآیند و شناسایی رشد جهت‌دار و هترواپیتکسیال لایه‌های الماس ارائه می‌دهد.

• Discusses the most advanced techniques for diamond growth
• Assists diamond researchers in deciding on the most suitable process conditions
• Inspires readers to devise new CVD (chemical vapor deposition

Ever since the early 1980s, and the discovery of the vapour growth methods of diamond film, heteroexpitaxial growth has become one of the most important and heavily discussed topics amongst the diamond research community. Kobashi has documented such discussions with a strong focus on how diamond films can be best utilised as an industrial material, working from the premise that crystal diamond films can be made by chemical vapour disposition. Kobashi provides information on the process and characterization technologies of oriented and heteroepitaxial growth of diamond films.