میکروسکوپ الکترونی عبوری در میکرو-نانوالکترونیک ۲۰۱۳
Transmission Electron Microscopy in Micro-nanoelectronics 2013

دانلود کتاب میکروسکوپ الکترونی عبوری در میکرو-نانوالکترونیک ۲۰۱۳ (Transmission Electron Microscopy in Micro-nanoelectronics 2013) با لینک مستقیم و فرمت pdf (پی دی اف)

نویسنده

Alain Claverie

voucher (1)

۳۰ هزار تومان تخفیف با کد «OFF30» برای اولین خرید

سال انتشار

2013

زبان

English

تعداد صفحه‌ها

264

نوع فایل

pdf

حجم

17.9MB

🏷️ قیمت اصلی: 200,000 تومان بود.قیمت فعلی: 129,000 تومان.

🏷️ قیمت اصلی: ۳۷۸٬۰۰۰ تومان بود. قیمت فعلی: ۲۹۸٬۰۰۰ تومان.

📥 دانلود نسخه‌ی اصلی کتاب به زبان انگلیسی(PDF)
🧠 به همراه ترجمه‌ی فارسی با هوش مصنوعی 🔗 مشاهده جزئیات

پیش‌خرید با تحویل فوری(⚡️) | فایل کتاب حداکثر تا ۳۰ دقیقه(🕒) پس از ثبت سفارش آماده دانلود خواهد بود.

دانلود مستقیم PDF

ارسال فایل به ایمیل

پشتیبانی ۲۴ ساعته

توضیحات

معرفی کتاب میکروسکوپ الکترونی عبوری در میکرو-نانوالکترونیک ۲۰۱۳

امروزه، در دسترس بودن منابع الکترونی درخشان و بسیار همدوس و نیز آشکارسازهای حساس، نوع و کیفیت اطلاعاتی را که می‌توان از طریق میکروسکوپ الکترونی عبوری (TEM) به دست آورد، به طور اساسی تغییر داده است. امروزه میکروسکوپ‌های TEM نه تنها در مراکز دانشگاهی، بلکه در مراکز تحقیقاتی صنعتی و کارخانجات نیز به وفور یافت می‌شوند.

این کتاب به شیوه‌ای ساده و کاربردی، تکنیک‌های کمی جدید مبتنی بر TEM را ارائه می‌دهد که اخیراً برای پرداختن به مهم‌ترین چالش‌هایی که دانشمندان و مهندسان فرآیند در توسعه یا بهینه‌سازی لایه‌ها و ابزارهای نیمه‌رسانا با آن مواجه هستند، اختراع یا توسعه یافته‌اند. بسیاری از این تکنیک‌ها مبتنی بر هولوگرافی الکترونی هستند. برخی دیگر از امکان متمرکز کردن پرتوهای شدید در نانوپروب‌ها بهره می‌برند. اندازه‌گیری‌ها و نقشه‌برداری‌های کرنش، فعال‌سازی و جداسازی دوپینگ، واکنش‌های بین سطحی در مقیاس نانو، شناسایی نقص‌ها و آماده‌سازی نمونه توسط FIB از جمله موضوعاتی هستند که در این کتاب ارائه شده‌اند. پس از ارائه مختصر تئوری اصلی، هر تکنیک از طریق مثال‌هایی از آزمایشگاه یا کارخانه نشان داده می‌شود.


فهرست کتاب:

۱. روی جلد

۲. فهرست

۳. صفحه عنوان

۴. صفحه حق تکثیر

۵. مقدمه

۶. فصل ۱: پروفایل‌نگاری دوپینگ فعال در TEM به روش هولوگرافی الکترونی خارج از محور

۷. فصل ۲: آنالیز کمی توزیع دوپانت با استفاده از تکنیک‌های طیف‌سنجی STEM-EELS/EDX

۸. فصل ۳: اندازه‌گیری کمی کرنش در ادوات پیشرفته: مقایسه‌ای بین پراش الکترونی باریکه همگرا و پراش باریکه نانو

۹. فصل ۴: هولوگرافی الکترونی میدان تاریک برای نقشه‌برداری کرنش

۱۰. فصل ۵: نقشه‌برداری مغناطیسی با استفاده از هولوگرافی الکترونی

۱۱. فصل ۶: نفوذ متقابل و واکنش شیمیایی در سطوح مشترک توسط TEM/EELS

۱۲. فصل ۷: شناسایی عیوب ناشی از فرآیند

۱۳. فصل ۸: روش‌های شناسایی برجا در میکروسکوپ الکترونی عبوری

۱۴. فصل ۹: آماده‌سازی نمونه برای آنالیز نیمه‌رسانا

۱۵. فهرست نویسندگان

۱۶. نمایه

توضیحات(انگلیسی)

Today, the availability of bright and highly coherent electron sources and sensitive detectors has radically changed the type and quality of the information which can be obtained by transmission electron microscopy (TEM). TEMs are now present in large numbers not only in academia, but also in industrial research centers and fabs.
This book presents in a simple and practical way the new quantitative techniques based on TEM which have recently been invented or developed to address most of the main challenging issues scientists and process engineers have to face to develop or optimize semiconductor layers and devices. Several of these techniques are based on electron holography; others take advantage of the possibility of focusing intense beams within nanoprobes. Strain measurements and mappings, dopant activation and segregation, interfacial reactions at the nanoscale, defect identification and specimen preparation by FIB are among the topics presented in this book. After a brief presentation of the underlying theory, each technique is illustrated through examples from the lab or fab.


Table of Contents

1. Cover

2. Contents

3. Title page

4. Copyright page

5. Introduction

6. Chapter 1: Active Dopant Profiling in the TEM by Off-Axis Electron Holography

7. Chapter 2: Dopant Distribution Quantitative Analysis Using STEM-EELS/EDX Spectroscopy Techniques

8. Chapter 3: Quantitative Strain Measurement in Advanced Devices: A Comparison Between Convergent Beam Electron Diffraction and Nanobeam Diffraction

9. Chapter 4: Dark-Field Electron Holography for Strain Mapping

10. Chapter 5: Magnetic Mapping Using Electron Holography

11. Chapter 6: Interdiffusion and Chemical Reaction at Interfaces by TEM/EELS

12. Chapter 7: Characterization of Process-Induced Defects

13. Chapter 8: In Situ Characterization Methods in Transmission Electron Microscopy

14. Chapter 9: Specimen Preparation for Semiconductor Analysis

15. List of Authors

16. Index

دیگران دریافت کرده‌اند

✨ ضمانت تجربه خوب مطالعه

بازگشت کامل وجه

در صورت مشکل، مبلغ پرداختی بازگردانده می شود.

دانلود پرسرعت

دانلود فایل کتاب با سرعت بالا

ارسال فایل به ایمیل

دانلود مستقیم به همراه ارسال فایل به ایمیل.

پشتیبانی ۲۴ ساعته

با چت آنلاین و پیام‌رسان ها پاسخگو هستیم.

ضمانت کیفیت کتاب

کتاب ها را از منابع معتیر انتخاب می کنیم.